PVD nanokontaktų charakteristikos
May 22, 2019| PVD nanocetatų charakteristikos
Yra trys pagrindiniai nano dangų fizinio garų nusodinimo būdai: vakuuminis garavimas, purškimas ir jonų nusodinimas. Vakuuminis garavimas yra išgarinti šaltinio medžiagą į daleles (atomus arba jonus) elektronų pluošto šildymo, lazerio šildymo ir kt. Būdu. ir tada padėkite juos ant ruošinio paviršiaus, kad susidarytų danga. Danga turi palyginti daugiau porų, kurios turi bendrą sukibimą su pagrindu. Purškimas padengia ruošinį kaip anodą ir kaip katodą. Argono jonizacija, sukurta argono jonizacijos būdu, yra panaudota norintiems atomams išpūsti ir juos sudėti ant ruošinio paviršiaus. Danga turi mažiau porų ir yra gerai sujungta su pagrindu. Jonų dengimas - tai medžiaga, padaryta išgarinimo, purškimo ar cheminių metodų, atomų, ir jonizuojama plazmos aplink substratą. Veikiant elektriniam laukui, danga formuojama plaukiant į substratą su didesne kinetine energija. Danga yra vienoda ir tanki, iš esmės be porų ir gerai sujungta su substratu.
Titano oksido nanofilmai buvo paruošti dc magnetrono purškimu. Purškimo kameros slėgis buvo pumpuojamas iki 1,3 10-4pa, o po to pripildytas Ar, O2 ir CF4, bendrasis slėgis buvo 1,3pa (injekcijos kiekis buvo kontroliuojamas purškimo metu). Plėvelės storis yra per pastovią purškimo įtampą (700 v), kad pakeistų jos valdymo purškimo sąlygas, purškimo laiko pagrindo plokštės temperatūros kontrolę 100 ~ 400 ℃ . Elektrochrominės savybės buvo nustatytos LiC1O4 ir propileno karbonate. Tačiau plėvelės paviršius yra paveiktas dujų ir įkrautų dalelių, o plėvelės veikimas labai priklauso nuo plazmos būsenos, o purškimo būklė nėra lengva griežtai kontroliuoti, o tai yra ir didžiausias trūkumas.
Siekiant dar labiau pagerinti nano dangos kokybę, įvairios pažangios PVD technologijos buvo sukurtos ir gautos derinant įvairias technologijas. Įvairūs magnetroniniai purškimo būdai buvo sukurti įterpiant magnetinį lauką į purškimo techniką, kurioje dominuoja elektrinis laukas. Siekiant sustiprinti cheminį plėvelės susidarymo procesą, garavimo, purškimo ir jonų dengimo procese buvo įdiegta reaktyvioji dujos, todėl atsirado reaktyviosios garavimo technologijos, reaktyviosios purškimo technologijos ir reaktyviosios jonų dengimo technologijos. Be to, yra impulsinis lazerinis nusodinimas (PLD), magnetronų purškimas (MSPLD), jonizuoto magnetinio skutimo (jonizuoto magnetinio skutimosi), molekulinės spinduliuotės epitaksas (MBE), migracijos augimas ir kita nauja membranų technologija.
Matyti, kad, plėtojant mokslą ir technologijas, tarp CVD ir PVD riba nėra aiški, o abi jos užsiteršia viena kitai, todėl abi dangos paruošimo technologijos tampa tobulesnės.
IKS PVD ， dekoratyvinės dengimo mašinos ， įrankių padengimo mašina ， kontaktas ： iks.pvd@foxmail.com
