PVD dengimo apdorojimas ant aliuminio lydinio liejimo liejimo paviršiaus
Jun 04, 2018| Pagal aliuminio lydinio liejimo formų gedimo režimą PVD danga yra labai geras apsaugos metodas. Toliau pateiktoje lentelėje parodytas apsauginis PVD dangų poveikis aliuminio lydinio liejimo formoms.
| Dengimas | Spalva | funkcijos |
| CrN | sidabras | Chromas turi anti-adhesive savybių ir tai yra gera aliuminio pralaidumo kliūtis. CrN danga turi puikią atsparumą aukštai temperatūrai (apie 800 ° C), atsparumą korozijai ir atsparumas azotams, taip pat jis turi gerą spalvotųjų metalų atsparumą suvirinimui. |
| TiAlN | Violetinė | Kadangi TiAlN danga yra aliuminio, danga ne tik oksiduoja aukštą temperatūrą atsparumas (apie 800 ° C ), bet taip pat gali optimaliai apsaugoti apdorojimo įrankį sausos arba didelės spartos sąlygos. Be to, dėl silpno šilumos laidumo, aliuminio liejimas gali trukdyti šilumos laidumui iki formos medžiagos, todėl ji gali užkirsti kelią plyšių formavimui. |
| TiN | Auksas | TiN danga turi gerą atsparumą aukštai temperatūrai (apie 600 ° C), atsparumą korozijai ir atsparumas nusidėvėjimui, tačiau formų apsauga nėra tokia gera kaip kitų dangų. |
| AlCrN | Juoda | AlCrN danga turi atsparumo oksidacijai, atsparumo aukštai temperatūrai (apie 1100 ° C), atsparumas dilimui ir didelė kietumas. Taigi jis labai tinka pelėsių šerdims, slankiklio, įdėklams, įdėkite kaiščius ir kitas liejimo dalis, pasirodymas yra labai geras. |
Dažų paviršiaus dengimo būdas yra naudojamas norint užkirsti kelią aliuminio lydinio liejimo formos įtrūkimui ir žymiai pailginti liejimo laiką. Tačiau dangos pasirinkimas turi atitikti keletą principų:
1. Dangtis gali atlaikyti aukštą temperatūrą.
2. Dangai yra didelis cheminis stabilumas ir nereaguoja su aliuminio lydiniu.
3. Dangtis yra labai tanki ir gali blokuoti A1 atomo difuziją.
Tarp paviršiaus dangų CrN ir AlCrN yra geriausi pasirinkimai. Jie gali išlaikyti aukštą temperatūrą iki 700 ° C, o cheminė inertiškumas yra aukštas. Be to, šios dvi dangos yra labai tankios, kad susidarytų griežtas apsauginis sluoksnis ant formos paviršiaus, kad būtų išvengta AI atomų prasiskverbimo į pagrindą.