HiPIMS technologijų apžvalga

Magnetronų purškimo technologija plačiai naudojama plonų plėvelių paruošimo srityje. Dekoratyvinės dangos ir įrankių dangos taikymas yra palyginti paplitęs.

Tačiau magnetroninės dulkių apdorojimo technologijos turi daugybę apribojimų. Pvz., Kai spinduliavimo srovė yra didelė, tai reiškia, kad magnetroninio purškimo tikslinės galios tankis yra ribojamas tikslinės šilumos apkrovos, tikslinio bombardavimas su pernelyg teigiamais jonais gali sukelti purškimo tikslą perkaisti ir dega. Be to, jis taip pat turi trūkumų, susijusių su ribotu purškimo energija ir mažo metalo jonizavimo sparta.

Pastaraisiais metais šalyje ir užsienyje buvo sukurta didelio galingumo impulsinė magneto spinduliavimo (HiPIMS) technologija, o šis apribojimas buvo labai susilpnintas. Didžioji galia didelio galingumo pulsuojančio magnetroninio purškimo yra apie 100 kartų didesnė už įprastą magnetroninį purškimą. Išpūstos medžiagos jonizacijos greitis yra labai didelis, o šis labai jonizuotas spindulys nesudaro didelių dalelių. Taigi, aukštos kokybės plėvelę galima lengvai gauti HiPIMS technologija.

Kadangi impulsų veikimo laikas yra per keletą šimtų mikrosekundžių, vidutinė HiPIMS galia yra panaši į įprastos magnetroninės dulkių koncentraciją, taigi nereikalaujama aušinimo magnetrono tikslui didinti. Nors momentinė didelio galingumo pulsinio magnetroninio spinduliavimo galia yra didelė, jo vidutinė galia nėra didelė, todėl ji gali būti plačiai naudojama.