Cheminis nusodinimas garais (CVD)

cheminis nusodinimas garais (CVD)

CVD technologija naudoja dujinius junginius arba junginių mišinius, kad kaitinamajame pagrindo paviršiuje vyktų cheminės reakcijos, dėl kurių ant pagrindo paviršiaus susidaro nelaki danga.
Privalumai: paprastas valdymas, didelis lankstumas, tinka vienai arba sudėtinei membranai ir membranos sluoksniui; Platus pritaikymas; Nusėdimo greitis gali siekti nuo kelių mikronų iki šimtų mikronų per minutę, didelis gamybos efektyvumas; Tinka dengti sudėtingos formos matricą; Danga turi gerą kompaktiškumą.
Trūkumai: aukšta nusodinimo temperatūra, dėl kurios gali pablogėti substrato veikimas; Reakcijos dujos ir išmetamosios dujos gali būti ėsdinančios, degios ir tam tikru mastu toksiškos. Danga labai plona.
CVD metodas daugiausia taikomas dviem bendromis kryptimis:
1, dangos paruošimas, medžiagų ar dalių paviršiaus charakteristikų pagerinimas, siekiant pagerinti arba pagerinti medžiagų ar dalių atsparumą oksidacijai, atsparumą dilimui, atsparumą korozijai ir kai kurias elektrines, optines ir tribologines medžiagų ar dalių savybes.
2. Kurti naujas konstrukcines medžiagas. Šiuo metu CVD technologija buvo plačiai naudojama daugeliu aspektų, tokių kaip apsauginė plėvelė, mikroelektronikos technologija, saulės energijos panaudojimas, optinio pluošto ryšys, superlaidumo technologija, naujų medžiagų paruošimas ir kt.
Be to, ruošiant miltelines medžiagas, naudojant veiksmingą ir stabilų katalizatorių, skatinantį CVD miltelių paruošimo procesą, arba derinant su fiziniais metodais miltelių medžiagų paruošimui žemos temperatūros ir didelio vakuumo sąlygomis, tapo būsima cheminio nusodinimo garais technologijos kryptimi. plėtra.

IKS PVD įmonė, dekoratyvinio dengimo mašina, įrankių dengimo mašina, DLC dengimo mašina, optinio dengimo mašina, PVD vakuuminio dengimo linija, yra „iki rakto“ projektas. Susisiekite su mumis dabar, el.iks.pvd@foxmail.com