Elektronų pluošto apdorojimo ir jonų pluošto apdorojimo technologijos charakteristikų palyginimas

Savybės   palyginimas   elektronų pluošto apdorojimo ir jonų pluošto apdorojimo technologijos sritis

Elektronų pluošto apdorojimo ypatybės:

(1) Kadangi elektronų pluoštas gali būti sufokusuotas labai tiksliai, net gali būti sufokusuotas iki 0,1 m, todėl apdorojimo plotas ir plyšys gali būti labai maži, yra tikslus ir labai mažas apdorojimo būdas.

(2) Elektronų pluošto energijos tankis yra labai didelis, todėl švitinimo dalies temperatūra viršija medžiagos lydymosi ir dujinimo temperatūrą. Ruošinyje nėra mechaninės jėgos, jis nesukelia makroskopinio įtempio ir deformacijos. Apdorojimo medžiagos gali būti perdirbamos iš įvairių trapių, tvirtų, laidžių, nelaidžių ir puslaidininkinių medžiagų.

(3) Didelis elektronų pluošto energijos tankis lemia aukštą apdorojimo efektyvumą. Pavyzdžiui, 2,5 mm storio plieno plokštėje kas antrą kartą galima gręžti 50 0,4 mm skersmens skylių.

(4) Elektronų pluošto intensyvumą, vietą ir fokusą galima tiesiogiai valdyti magnetiniu lauku arba elektronu, taigi, visą procesą patogu pirmiausia automatizuoti. Ypač veikiant elektronų pluoštui, nuo apdorojimo vietos iki apdorojimo grafikos nuskaitymo. Galima automatizuoti. Gręžiant ir pjaunant elektronų pluoštą, specialiu pavidalu skylės gali būti apdorojamos elektriniu valdymu, kad būtų pasiektas išlenktas pjovimas.

(5) Kadangi elektronų pluošto apdirbimas atliekamas vakuume, todėl mažiau taršos, perdirbimo paviršius nebus oksiduotas, ypač tinkamas lengvai oksiduotoms metalų ir lydinių medžiagoms, puslaidininkinėms medžiagoms, turinčioms aukštus grynumo reikalavimus, perdirbti.

(6) Norint apdoroti elektronų pluoštą, reikalingas visas specialios įrangos ir vakuuminės sistemos rinkinys, kaina yra brangesnė, gamybos būdas turi tam tikrų apribojimų.

IKS PVD elektroninio pluošto optinio dengimo aparatas ， IKS-OPT2700, daugiau informacijos, susisiekite su iks.pvd@foxmail.com