Dengimo tikslinės

Danga taikinys yra apipurškiant šaltinį sudaro ant įvairių substratų magnetroninį apipurškiant, multi lanko joninio nusodinimo ar kito tipo dangos sistema pagal tinkamas sąlygas.

Reikalavimaidengimo tikslinėsmedžiaga yra didesnė nei tradicinių medžiagų pramonė. Apskritai, pvz., dydis, lygumo, grynumas, priemaišų kiekis, tankis, N/O/C/S, matmenys ir defektas kontroliuoti. Griežtesnius reikalavimus arba specialūs reikalavimai apima: paviršiaus šiurkštumas, pasipriešinimo, grūdų dydžio vienodumas, sudėties ir tekstūros vienodumo, pašalinių medžiagų (oksidas) turinio ir dydžio, Magnetinė skvarba, itin didelio tankio ir ypač smulkiomis granulėmis ir tiek apie. Dengimo tikslas yra tam tikros rūšies fizikiniu nusodinimu iš garų nusodinimo metodu, t. y. naudoti elektronų emisijos elektronų prožektoriai sistema ir dėmesio, kad atomai išslydo sluoksniu padengianti medžiaga, bus atlikite impulso konvertavimo principas ir skristi šalin medžiaga, substratas nusodinimo filmas. Šios rūšies padengtą medžiaga vadinama dengimo tikslą.

Magnetroninį apipurškiant danga yra naujos rūšies fizikiniu nusodinimu iš garų danga metodas, palyginti su išgarinimas dengimo metodas, kuris turi didelį pranašumą daugeliu atžvilgių. Magnetroninį apipurškiant buvo naudojamas daugelyje sričių, kaip gerai išvystyta technologija.

Dengimo technologija

Apipurškiant yra vienas iš pagrindinių metodų rengimas medžiagų, plona plėvele. Jis naudoja jonų generuoja jonų šaltinis paspartinti ir bendra forma greitųjų jonų pluošto srovė vakuume, streikų kieto paviršiaus ir mainai tarp kieto paviršiaus atomų ir jonų kinetinės energijos. Ant kieto paviršiaus atomų palikti kietosios ir ant substrato paviršiaus. Bombarded kietoji medžiaga yra žaliavos paruošimui dulkinio nusėda filmas, kuris yra vadinamas irdengimo tikslinės.

Programa

Dengimo tikslus yra daugiausia naudojamas elektroninio ir informacijos pramonės šakoms, pvz., integrinių grandynų, informacijos saugojimo, skystųjų kristalų ekranas, lazerių atminties, elektroniniai valdymo įtaisai ir t. t.; taip pat gali būti taikomas dėl stiklo danga; gali taip pat būti taikomas atsparumo dilimui medžiagos, aukštos temperatūros korozijai, aukštos klasės dekoratyviniai reikmenys ir kitose pramonės šakose.

Klasifikacija

1. pagal prie formos, ji gali būti suskirstyti įkvadratinių tikslinės, apvalūs tikslą.

2. pagal į sudėtį, jis gali būti suskirstyti į metalo tikslus, Lieti tikslus, keramikos junginys tikslus.

3. pagal prie programų, jis gali būti suskirstyti į keramikos tikslus su puslaidininkių, įrašymo laidumo keraminių tikslus, ekranas keramikos tikslus, kuria superlaidus keramikos tikslus ir milžinišką magnetų atsparumo keramikos tikslus.

4. pagal taikymo srityje, jis gali būti suskirstyti į mikroelektronikos tikslą, magnetinio įrašymo tikslą, optinio disko tikslas, tauriųjų metalų paskirties, plonų plėvelių atsparumas tikslą, laidžios plėvelės tikslą, paviršiaus pakeistą paskirties, dekoratyvinis sluoksnis tikslą, elektrodas taikinys, pakavimo tikslas ir kiti tikslai.

Principo magnetroninį apipurškiant

Ortogonalioji magnetinio lauko ir elektrinio lauko, taikomi tarp sferiniams tikslą (katodo) ir anodo užpildyti didelio vakuumo kameroje reikia inertinių dujų (paprastai, Ar dujas). Nuolatinis magnetas sudaro 250 – 350 Gauso magnetinis laukas, su aukštos įtampos elektrinis laukas susideda iš ortogonalioji elektromagnetinis laukas. Pagal elektrinį lauką, Ar dujų yra ionized į teigiamų jonų, elektronai, ir tam tikrų neigiamų aukštos įtampa yra taikomos į tikslą. Su magnetinio lauko įtaka, tikimybė jonizacija elektronų ir darbo dujų išmetami iš tikslinės didėja, o prie katodo susidaro didelio tankio plazmą. Ar jonų paspartinti skristi į taikinio pagal Lorenco jėga ir bombarduoti taikinio paviršių labai didelis greitis, kad atomai dulkių tikslą atlikite impulso konvertavimo principas ir tolti nuo taikinio paviršių prie substrato su didesnę kinetinę energiją saugoti plėvele.

Magnetroninį apipurškiantpaprastai yra skirstomi į du tipus:intakas purškimas ir radijo dažnio apipurškiant, kai intakas apipurškiant principas yra paprastas, ir greitis yra greitesnis, kai metalas yra dulkinio. Radijo dažnio apipurškiant plačiau naudojamas. Be to, dulkinio laidžios medžiagos, tačiau taip pat dengimo nelaidžią medžiagą. Ir ji taip pat parengė oksidas, nitridai ir karbido junginiai iš reaktyvaus apipurškiant. Jei radijo dažnis didėja po mikrobangų plazmoje apipurškiant, dažniausiai naudojamas elektronų cyclotron rezonanso (ECR) mikrobangų plazmoje apipurškiant.

Medžiagų, magnetroninįDengimo danga tikslinės: Metalų dengimo dangoje, Lieti dengimo dangoje, keramikos dangos dengimo medžiagos, boridu keramikos dengimo dangoje, karbido keramikos, dengimo dangoje, fluorido keramikos dengimo dangoje, nitridai keramikos, dengimo dangoje, siliciu keramikos, dengimo dangoje, sulfido keramikos dengimo dangoje, keramikos teliūrido apipurškiant selenidas keramikos dengimo dangoje oksido keramikos dengimo sluoksniu padengianti medžiaga, dangos medžiaga ir pan.