PVD technologijos keturi proceso etapai
Apr 06, 2020| PVD technologijos keturi proceso etapai (1) ruošinio valymas: įdėkite į nuolatinės srovės maitinimo šaltinį, argono švytėjimas buvo išmestas kaip argono jonai, išmestas ruošinio paviršiaus argono jonų bombardavimas, paviršiaus dalelės ir nešvarios ruošinio dalys; 2) dengimo medžiagos dujinimas: tai yra, įvedus kintamąją srovę, dengimo medžiagos garinimas. 3) dengiamųjų medžiagų jonų migracija: po susidūrimo ir aukštos įtampos elektrinio lauko atomai, molekulės ar jonai iš dujofikavimo šaltinio dideliu greičiu skubėjo į ruošinį; (4) dengiamosios medžiagos atomai, molekulės arba jonai nusėda ant substrato: kai garinimo medžiagos jonai ruošinio paviršiuje viršija išsiliejusių jonų skaičių, jie palaipsniui kaupiasi ir sudaro dangos sluoksnį, tvirtai prigludusį prie paviršiaus paviršiaus. ruošinys. Po to, kai jonizuotas dalelių jonizavimas, garinimo medžiaga turi nuo trijų tūkstančių iki penkių tūkstančių elektronų voltų kinetinę energiją, tai yra greita bombardavimo artefaktai, ne tik greitas nusodinimo greitis ir geba įsiskverbti į paviršių, sudarydami gilų į matricos difuzijos sluoksnį. , jonų padengimo sąsajos difuzijos gylis būtų nuo keturių iki penkių mikronų, tai yra, nei įprastos vakuuminės dangos difuzijos gylis gylis dešimtys kartų, net šimtą kartų, ir taip greitai priliptų vienas prie kito.
IKS PVD Technology (Shenyang) Co, Ltd , PVD vakuuminio dengimo mašinų gamintojas iš Kinijos, mūsų pagrindinis produktas: dekoratyvinės dangos mahcine, įrankių dengimo mašina, optinio dengimo mašina, PVD dengimo linija. Daugiau informacijos, kontaktas: iks.pvd@foxmail. com



