Taikymas elektronų pluošto garinimas

Elektronų pluošto garinimo taikymas - TiO 2 plėvelės paruošimas garinant elektronų pluoštą

Dengimo principas, kai išgarinamas elektronų pluoštas, siekiant paruošti TiO 2 plėvelę, naudojant INTEGRITY-39 automatinę optinio padengimo sistemą su jonų pluošto palaikomu elektronų pluošto išgarinimu, kaip parodyta paveikslėlyje žemiau.

0010010 nbsp; 1. Aušinančio vandens įleidimo anga; {{{2}}. Aušinimo vandens išleidimo anga; 3. Tiglis; 4. Pluošto ritė; 5. Elektronų pluošto siųstuvas; 6. Šildymo lempa; 7. Pagrindo rėmas; 8. Variklis; 9. Stebimoji plėvelė; 1 0. Jonų šaltinio paruošimo būdu pagaminto elektroninio pistoleto darbinė įtampa yra 1 0 kV, srovė - {{2}} 00 A, o vakuumo kameros nusodinimo temperatūra yra 1 45 ~ 1 55 ℃. Membranos medžiagai buvo parinktas juodas granuliuotas Ti 2 O 3 , kurio grynumas 9 9. 99%. Cc - 1 05 šaltojo katodo jonų pluoštas buvo naudojamas pagalbiniam nusodinimui. Nusodinimo metu vakuumo kamera buvo užpildyta O 2 grynumu 9 9. 99% kaip reakcijos dujos. Prieš dengimą, pagrindas nuvalomas stiklo tirpalu, nuplaunamas dejonizuotu 0010010 nbsp; vandens ir džiovinamas azotu. Tada substratas valomas 99. 9% acetono ir bevandenės etanolio ultragarso bangos kiekviena 15 min. Išdžiovinęs specialiu nušluostomu popieriumi, jis supilamas į vakuumo kamerą. Kai vakuumas mechaniniu siurbliu ir difuzijos siurbliu pumpuojamas į {{5}}. 5 × 10-4pa, nustatomas automatinis dengimo procesas. Kai substratas įkaista iki 1 5 0 ℃ nusodinimo temperatūros, jonų šaltinis pradeda bombarduoti substratą, o energija kontroliuojama esant {{5}} 0 ~ 9 0 eV 10 min.

tada elektronų pistoletas automatiškai pradedamas kaitinti ir išgarinti plėvelės medžiagą, o nusodinimo greitis yra 0. 38 ~ 0. 42 nm / s. Kai plėvelė nusėda iki projektinio storio 440 nm, programa automatiškai uždaro elektronų pistoletą ir padengimas yra baigtas. Padengus vakuumo kamera natūraliai atvėsinama iki kambario temperatūros ir mėginys buvo paimtas. TiO 2 mėginio spektrinis tyrimas buvo atliktas Lambda 900 (bandymo diapazonas 175 ~ 3 300 nm) spektrofotometru. Tikrasis TiO 2 plėvelės storis, išnykimo koeficientas ir lūžio rodiklis buvo apskaičiuoti „Macleod“ programinės įrangos apvalkalo metodu. Skirtingų vakuumo laipsnių poveikis plėvelei formuojantisy, TiO 2 lūžio rodiklis ir absorbcijos koeficientas buvo tiriami esant skirtingiems didelio grynumo deguonies srautams į vakuumo kamerą. Kai TiO 2 plona plėvelė nusodinama garinant, padedant jonų šaltiniui, esant aukštam vakuumo laipsniui, vakuumo laipsnio pokytis praleidžiant deguonį yra pateiktas šioje lentelėje. Kai deguonies molekulės vakuumo kameroje jonizuojamos į deguonies jonus ir visiškai reaguoja su Ti {{2}} O 3 garų molekulėmis, deguonis netenka skaidydamasis Ti {{{{4 4} }}} O 3 yra papildytas, o susidaręs TiO 2 filmas yra gana grynas. Tačiau, jei nepakanka deguonies tiekimo arba jei reakcija tarp Ti {{2}} O 3 ir O 2 yra nepakankama, titano oksido didelės absorbcijos plėvelė tino {{{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). Didėjant deguonies srautui, išgarinimo metu padidėja TiO 2 garų molekulių ir deguonies molekulių susidūrimo tikimybė ir prarandama energija, dėl kurios sumažėja TiO 2 , esančio ant substrato, kinetinė energija. paviršiaus ir turi įtakos nusodintos plėvelės sukibimui ir tankinimui. Optinėms plonoms plėvelėms jonų šaltinio pagalba gali padidėti substrato paviršiaus molekulių kinetinė energija, ji ne tik daro didelę įtaką plėvelės lūžio rodikliui, bet ir gali pagerinti plėvelės tankį bei atsparumą drėgmei, o plėvelė taip pat žymiai pagerėja sukibimas su pagrindu.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com